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（原标题：EUV光刻，迎来挑战者） 如若您但愿不错时常碰面，接待标星保藏哦~ 起首：本色编译自IEEE，谢谢。 2024年9 月，佳能推出了首款商用版技艺，该技艺有朝一日可能会颠覆伊始进的硅芯片制造工艺。这项技艺被称为纳米压印光刻 (NIL) ，能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，从而使逻辑芯片能够与目下量产的英特尔、AMD和Nvidia处理器相比好意思。 NIL 系统的上风可能会挑战目下主导先进芯片制造的 1.5 亿好意思元机器——极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。如若佳能的斟酌正确，

每经AI快讯，10月31日，好意思国10月挑战者企业裁人东谈主数5.5597万东谈主，前值7.2821万东谈主。

每经AI快讯，8月1日，好意思国7月挑战者企业裁人东谈主数 2.5885万东谈主，前值4.8786万东谈主。