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（原标题：EUV光刻，迎来挑战者） 如若您但愿不错时常碰面，接待标星保藏哦~ 起首：本色编译自IEEE，谢谢。 2024年9 月，佳能推出了首款商用版技艺，该技艺有朝一日可能会颠覆伊始进的硅芯片制造工艺。这项技艺被称为纳米压印光刻 (NIL) ，能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，从而使逻辑芯片能够与目下量产的英特尔、AMD和Nvidia处理器相比好意思。 NIL 系统的上风可能会挑战目下主导先进芯片制造的 1.5 亿好意思元机器——极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。如若佳能的斟酌正确，

据中国光谷公众号，近日，光谷企业在半导体专用光刻胶规模终了紧要碎裂。 武汉太紫微光电科技有限公司（以下简称“太紫微公司”）推出的T150 A光刻胶居品，已通过半导体工艺量产考据，终了配方全自主筹画，有望始创国内半导体光刻制造新处所。 该居品对标国际头部企业主流KrF光刻胶系列。相较于被业内称之为“妖胶”的海外同系列居品UV1610，T150 A在光刻工艺中发扬出的极限别离率达到120nm，且工艺优容度更大，踏实性更高，坚膜后烘留膜率优秀，其对后谈刻蚀工艺发扬更为友好，通过考据发现T150 A中